微汙染(AMC)管理系統-APA 302-叡盈實業

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微汙染(AMC)管理系統-APA 302

PFEIFFER 真空元件

微汙染(AMC)管理系統-APA 302

【商品描述】
有效的污染監測
在無塵室環境下,APA 302 是用於先進晶片製造的獨特線上監測工具。這台革新性設備可以測量 FOUP 和周圍環境中的空氣分子污染物(簡稱 AMC)。此測量實時發生,在 ppbv 範圍內具有很高的靈敏度。

水分和空氣分子污染物 (AMC),例如,氟化氫 (HF),在等待時間內,在 FOUP 槽對槽的空間被釋放。而這些元素會在圖樣晶圓上產生晶體生長,導致產量的損失和性能的退化。普發真空的 APA 302 通過 FOUP 過濾器來對 AMC 進行取樣。在 ppb 的範圍內,透過離子遷移光譜儀、火焰離子化檢測、熒光紫外或光腔衰蕩光譜技術,測量在 2 分鐘內發生,具有高靈敏度。而當負載連接埠上沒有 FOUP 時,APA 302 會監控周圍的無塵室環境。

FOUP 環境的可靠分析
為了確保性能,SEMI S2/S8 相容的 APA 302 配備了自動校準功能,它會在定期的時間間隔內啟動。對於在 APA 中對 AMC 的監控,可在有晶圓或無晶圓的 POD 中執行。 FOUP 可以手動傳送,也可透過 2 個負載連接埠上的懸掛式起重運輸 (OHT) 來傳送。因此,可優化各製程步驟間的等待時間,污染的增加量能立刻被察覺到,且產量增加。